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| SENTECH光譜橢偏儀的型號技術(shù)參數(shù)及應用 |
| 點擊次數(shù)：51 更新時間：2025-01-21 |
SENTECH光譜橢偏儀的型號技術(shù)參數(shù)及應用 SENTECH是一家專注于光譜橢偏儀研發(fā)和生產(chǎn)的公司，其產(chǎn)品廣泛應用于薄膜、材料分析等領(lǐng)域。以下是幾種SENTECH光譜橢偏儀的型號、技術(shù)參數(shù)及應用。 1. SENresearch - 光譜范圍：190nm–2500nm - 測量速度：快速 - 測量精度：高 - 應用： - 薄膜厚度測量 - 折射率測量 - 吸收系數(shù)測量 - 材料性質(zhì)描述，如材料組分、折射率梯度、表面和界面粗糙層、各向異性材料和多層膜 - 分析不理想的樣品，如退偏效應，非均勻樣品，散射和背板反射 - 地貌圖掃描選項，支持對復雜多層膜樣品在全波段快速測量并分析其均勻性。 2. SENpro - 光譜范圍：370到1050nm - 測量速度：快速 - 操作：簡單 - 數(shù)據(jù)分析：直觀 - 應用： - 測量單層和多層膜的厚度和光學常數(shù) - 成本效益高，適合預算有限的研究和工業(yè)應用 - 自動掃描功能，支持均勻性測量。 3. SENDURO - 光譜范圍：未明確給出，但適用于透明和反射基片上單層薄膜和層疊膜的測量 - 測量速度：快速，總時間只需幾秒鐘 - 自動化程度：高，全自動模式，自動對準傳感器 - 應用： - 質(zhì)量控制和研發(fā)中的常規(guī)應用 - 生產(chǎn)和工藝監(jiān)控 - 半導體上的介質(zhì)膜到玻璃上的多層光學涂層的測量 - 預定義或用戶定義的自動掃描模式，允許廣泛的統(tǒng)計特性和數(shù)據(jù)圖形顯示。 4. SER 800 PV - 光譜范圍：未明確給出，但優(yōu)化用于光伏應用 - 測量靈敏度：高 - 去偏振校正：具備 - 應用： - 光伏應用中的紋理晶體和多晶硅太陽能電池上抗反射涂層和功能層的測量 - 單片薄膜和多層堆疊物的測量 - 公式模式特別適用于質(zhì)量控制中所需的常規(guī)應用。 5. SENresearch 4.0 - 光譜范圍：190nm(深紫外)到3500nm(近紅外)- 測量精度：高 - 應用： - 光譜橢偏儀，適用于全穆勒矩陣、各向異性、廣義橢偏、散射測量等 - 寬光譜范圍和高光譜精度，適用于多種材料和薄膜的測量。 總結(jié) SENTECH光譜橢偏儀系列涵蓋了從基礎(chǔ)研究到工業(yè)應用的多種需求，具有廣泛的光譜范圍、快速的測量速度和高精度的特點。這些儀器在薄膜、材料分析、光伏應用等領(lǐng)域有著廣泛的應用，能夠滿足不同用戶的需求。 |
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